PVD(Physical Vapor Deposition)即物理气象沉积;

顾名思义PVD是利用某种物理过程，如物质受到粒子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移的过程

具有以下几个特点:

需要使用固态的或熔融态的物质作为沉积过程的源物质;

源物质经过物理过程而进入气相;

需要相对较低的气体压力环境;

在气相中及在衬底表面并不发生化学反应。