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PVD是一种新的镀膜工艺
发布日期:2024-07-25 点击次数:79
PVD是一种新的镀膜工艺,由于薄膜制备工艺是在真空条件下进行的,故称真空镀膜法。亦称干式镀膜法。它与湿式镀膜相比较具有如下特点:
真空下制备薄膜,环境清洁,膜不易受污染,致密性好、纯度高、膜厚均匀的涂层
膜材和基体材料有广泛的选择性,薄膜厚度可控,可以制备各种不同的功能性薄膜。
膜与基体附着强度好,膜层牢固。
不产生废液,可避免对环境的污染。