PVD是一种新的镀膜工艺，由于薄膜制备工艺是在真空条件下进行的，故称真空镀膜法。亦称干式镀膜法。它与湿式镀膜相比较具有如下特点:

真空下制备薄膜，环境清洁，膜不易受污染，致密性好、纯度高、膜厚均匀的涂层

膜材和基体材料有广泛的选择性，薄膜厚度可控，可以制备各种不同的功能性薄膜。

膜与基体附着强度好，膜层牢固。

不产生废液，可避免对环境的污染。